000			02094nab a2200277 a 4500
003			AR-ReUNN
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008			260701s2019 ag |||||||||||||||||spa
100	1		_aGranja, Vicente _9194827
700	1		_aOvando, Grace _9194828
700	1		_aRuano, Eliana _9194829
700	1		_aGarcía Merino, Iván _9194742
245	1	0	_aEstudio comparativo de compatibilidad entre yesis tipo IV y siliconas de adición con tensioactivo y sin tensioactivo
264		1	_c2019
300			_a5 páginas
520			_aEn el presente estudio se pretende identificar la compatibilidad que se produce en los yesos de uso odontológico tipo IV comparados con las siliconas de adición. La Asociación Dental Americana en su especificación 19, reglamentó la capacidad de copia de detalle de los elastómeros en 20 micras, las mismas que deben ser producidads en el modelo de yeso. Se sabe que esta reproducción depende de la afinidad entre el material de impresión y el material empleado para el vaciado¹. En este estudio se tomaron 120 impresiones de siliconas de adicción (Elite H-D (Zhermack®) empleando el aparato para reproducción de detalle y compatibilidad de la ANSI/ADA). Se conformaron 4 subgrupos de 30 impresiones para cada uno de los yesos tipó IV (Whip mix: Jade Stone y Silky Rock, Volcán (chileno), Zhermack), 15 de las cuales fueron previamente tratados con un tensoactivo (Debublizer, Kerr). Posteriormente se registró la reproducción de detalle y compatibilidad en las diferentes muestras de yesos tipo IV, para lo cual se utilizó un microscopio estereoscópico de luz lateralizada (NIKON SMZ - 10) del laboratorio de Histopatología de la Facultad de Odontología de la Universidad Central del Ecuador.
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650		4	_aCompatibilidad _957606
650		4	_aSiliconas de Adicion _9172751
650		4	_aTensioactivos _9194831
773	0		_tOdontología Revista de la Facultad _x1390-7468 _gn. 12 (2010) _w258772
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