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    <subfield code="a">Consideraciones del pilar del implante y el contorno de la corona : contorno cr&#xED;tico y contorno subcr&#xED;tico</subfield>
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    <subfield code="a">Las restauraciones con implantes de contorno adecuado necesitan una transici&#xF3;n desde el dise&#xF1;o circunferencial de la cabeza del implante a la anatom&#xED;a cervical correcta del diente. Siempre que haya suficiente espacio puede usarsew el pilar del implante para efectuar esta transici&#xF3;n. Las restauraciones con implantes se han descrito cono de contorno excesivo, planas y de contorno insuficiente.  Se ha demostrado que el contorno excesivo en general da lugar a un posicionamiento apical del margen gingival, al mismo tiempo que un contorno insuficiente inducir&#xE1; el efecto contrario. Sin embargo, estos t&#xE9;rminos se han aplicado de manera arbitraria y sin asignar los determinantes espec&#xED;ficos. Adem&#xE1;s, es preciso redefinir el concepto de "contorno" seg&#xFA;n lo adaptado originalmente a partir de las restauraciones dentosoportadas por lo que respecta a la implantolog&#xED;a. Dentro del pilar del implante y la corona se definen dos zonas diferentes como contorno cr&#xED;tico y contorno subcr&#xED;tico. Cualquier alteraci&#xF3;n del contorno cr&#xED;tico o subcr&#xED;tico puede modificar el perfil del tejido blando. El objetivo de este art&#xED;culo es determinar el efecto de las modificaciones del contorno del pilar en esatas zonas sobre los tejidos blandos preimplante, inclu&#xED;do el nivel del margen gingival, la altura de las papilas. la arquitectura gingival, el perfil alveolar labial y el color gingival.</subfield>
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